日本 ORC HMW-615N-4 照射装置
2026-06-09 15:25:17
admin
日本 ORC HMW-615N-4 照射装置
该装置在形成细微图案的过程中，如半导体制造和液晶基板制造过程中，将紫外线照射到基板表面残留有机物上，以在不接触的情况下去除有机污染。 你可以清洁和修改表面而不损坏电路板。
它配备了独特的低压紫外线灯，对基材的损伤最小，且具备高度分解有机物的能力。
通过振动基底的模式，紫外光强度均匀照射到基底上。
基材加热不大。
可采用臭氧切割和氮气净化方法。
使用的灯具 低压紫外灯
VUV-040/A-2.2U 四灯
照射距离 15毫米
辐射区域 200W×200D
曝光时间 0~99分59秒（变量）
废气臭氧去除 臭氧分解滤波器所用
外部尺寸 580（W） × 500（D） × 240（H）毫米 25公斤
